电子半导体超净高纯(VLSD) 试剂是大规模集成电路(IC) 及高档半导体器件制造过程的专用化学品，主要用于硅单晶片的清洗、光刻、腐蚀工序中，它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能、可靠性都有着重要的影响。

随着IC集成度的不断提高，对超净高纯试剂的质量指标提出了更高要求。国际上半导体工业协会(Semiconductor Industry Association) 新近推出Semi C7 (适合0.8~1.2μm 工艺技术) 和Semi C8 (适合于0.2~0.6μm 工艺技术) 级别试剂质量标准。

中国的超净高纯试剂有低尘高纯级、MOS级、BV-I 级、BV-I级、BV-皿级(相当于Semi C7 质量标准)。

水质标准

1、ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

2、欧盟电子级超纯水标准

3、中国电子工业国家标准GB/T11446.1-1997

技术要求

半导体芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷却用水，基板晶圆片检测清洗用水，中段晶圆片溅镀、曝光、电镀、光刻、腐蚀等工艺清洗，后段检测封装清洗。LED芯片主要是前段在MOCVD外延片生长用水，中段主要在曝光、显影、去光阻清洗用水，后段检测封装用水。同时，半导体行业对TOC的要求较高。