电子行业超纯水系统详解
随着华为世界市场的不断扩展,中国的电子行业也在如火如荼的高速发展,而在电子行业的生产以及研发过程中,都不可缺少超纯水的使用,MG电玩电子级超纯水设备则是为国内电子行业的生产与研发而诞生的超纯水系统。水质能完全符合国内电子级超纯水行业规定,特别是对金属离子的控制,能做到十分的精密,这一点就在于使用进口高端的EDI电渗析技术,能满足国内的任何一家电子企业的生产与使用,而且价格远低于进口超纯水系统,真正的性价比之王。
在电子工业主要是线路板、电子元器件生产都需要使用去离子水/超纯水,这类产品精密度非常高,在生产过程中的重要度也在不断的提升,已经慢慢成为能影响产品生产质量的重要因素。一款好的超纯水系统,能将生产线路板、电子元器件生产过程中直接影响到实验结果和生产结果的金属离子降到最低,使最终生产品质得到不错的提升。
在晶体管、集成电路生产中,超纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
集成电路(DRAM)对纯水水质的要求:
集成度 |
16K |
64K |
256K |
1M |
4M |
16M |
相邻线距(um) |
4 |
2.2 |
1.8 |
1.2 |
0.8 |
0.5 |
微粒直径(um) |
0.4 |
0.2 |
0.2 |
0.1 |
0.08 |
0.05 |
微粒个数(PCS/ml) |
<100 |
<100 |
<20 |
<20 |
<10 |
<10 |
细菌(CFU/100ML) |
<100 |
<50 |
<10 |
<5 |
<1 |
<0.5 |
电阻率(us/cm) |
>16 |
>17 |
>17.5 |
>18 |
>18 |
>18.2 |
TOC(ppb) |
<1000 |
<500 |
<100 |
<50 |
<30 |
<10 |
DO(ppb) |
<500 |
<200 |
<100 |
<80 |
<50 |
<10 |
Na*(ppb) |
<1 |
<1 |
<0.8 |
<0.5 |
<0.1 |
<0.1 |
电子超纯水设备是保证电子产品质量安全促进电子业健康运行的依据,电子超纯水设备适用集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、晶元材料生产、加工,MG电玩的电子工业超纯水设备广泛的用于在电子业中,而且在电子业中的地位更是蒸蒸日上成为业内发展的重要推手。
电子行业超纯水特点:
目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。
电子行业超纯水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素。这种级别的超纯水是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。目前,超纯水设备的方法通常采用反渗透,去离子或电渗析(EDI)等工艺进行制备。
中国电子行业超纯水国家标:
|
EW-I(一级水) |
EW-II(二级水) |
电阻率MΩ.cm(25℃) |
18以上(95%时间)不低于17 |
15(95%时间)不低于13 |
硅≤ μ g/l |
2 |
10 |
> 1 μ M 微粒数≤个/ml |
0.1 |
5 |
细菌个数≤个/ml |
0.01 |
0.1 |
铜≤ μ g/l |
0.2 |
1 |
锌≤ μ g/l |
0.2 |
1 |
镍≤ μ g/l |
0.1 |
1 |
钠≤ μ g/l |
0.5 |
2 |
钾≤ μ g/l |
0.5 |
2 |
氯≤ μ g/l |
1 |
1 |
硝酸根≤ μ g/l |
1 |
1 |
磷酸根≤ μ g/l |
1 |
1 |
硫酸根≤ μ g/l |
1 |
1 |
总有机碳≤ μ g/l |
20 |
100 |
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